magazine
No. 42
2005年8月號
2002年起,晶片製程技術就停滯不前。無法繼續縮小晶片線寬的夢魘,持續困擾著半導體業者。台積電的「浸潤式微影術」,終於為他們帶來曙光。利用水的折射,以193奈米波長的雷射光,也可以將晶片線寬推進到80奈米、65奈米。
辛哈(Gunjan Sinha)
2005-11-30
蘇可羅(Robert H. Socolow)
曾志朗(Ovid J. L. Tzeng)
2005-08-04
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